Répertoire de produits en Chine, Catalogue de produits en Chine - Produits de porcelaine en gros, fabriqués en Chine

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Tampon de polissage en polyuréthane

Le tampon de polissage en polyuréthane est également connu sous le nom de tampon de polissage à l'oxyde de cérium, microdermabrasion rouge, cuir de polissage métallographique, etc. Il est principalement utilisé dans le polissage miroir du cristal, de l'artisanat du verre, des pierres précieuses et de l'optique en cristal.

Disques de rodage diamantés

Le disque de meulage au diamant peut broyer efficacement le saphir, le carbure de silicium, l'acier au tungstène, le carbure cémenté, le superalliage et d'autres matériaux.

Plaques de meulage et de polissage

Le meulage et le polissage sont deux processus utilisés pour améliorer la planéité et la rugosité de la surface de la pièce. Dans le processus d'application proprement dit, nous utilisons généralement différentes plaques pour y parvenir, mais ici, je vais introduire une plaque spéciale de meulage et de polissage, qui peut réaliser le meulage et le polissage en même temps.

Plateau de rodage plat

Quels sont les principaux composants du plateau de rodage ? Fabriqué à partir d'un mélange homogène de résines synthétiques, de poudre métallique et de liaison/durcissement de clé. Quelle est la fonction du plateau de rodage ? Le plateau de rodage permet un meulage efficace et améliore la planéité et la rugosité de la surface de la pièce.

Tampons de polissage pour saphir

Il peut polir avec précision le carbure cémenté, la céramique, le verre, les plaquettes de silicium, le carbure de silicium, le saphir, le tantalate de lithium et d'autres matériaux.

Lustre de polissageï¼AlâOâï¼

Polishing Slurryï¼AlâOâï¼ est une suspension de silice colloïdale développée spécialement pour le polissage de la céramique et des substrats électroniques tels que le tantalate de lithium (LiTaO3), le niobate de lithium (LiNbO3) et le photomasque de verre, la céramique de ferrite, le Ni-P Disque, cristal, céramique PZT, céramique de titanate de baryum, silicium nu, céramique d'alumine, CaF2, reprise de plaquette de silicium nu, céramique SiC, saphir, substrats électroniques, céramique, cristal. Avec une excellente uniformité et dispersion des particules, il offre un taux d'élimination élevé et un polissage sans dommage.

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